超纯水设备在电子行业中的应用与技术特征
时间:2017-07-03 12:54:55  浏览数:932

电子超纯水设备是保证电子产 品、质量、安全,促进电子业健康运行的依据,电子超纯水设备适用集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、晶元材料生产、加工。在电子元器件生产中,去离子水/超纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

超纯水设备在电子行业中的应用与技术特征

在晶体管、集成电路生产中,超纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高
电子行业超纯水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水,是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。目前,超纯水设备的方法通常采用反渗透,去离子或电去离子(EDI)等工艺。

电子行业超纯水设备技术有以下特征:

1、可连续自动生产,不必停机再生
2、出水水质优于常规离子交换法
3、不需酸碱再生,不污染环境
4、运行成本低,占地面积小


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